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发布时间：2022-07-07 20:09:00 作者：苏州晶淼半导体
超声清洗：
腐蚀后的MCP是由微米级细孔构成的复杂网状结构,普通的清洗方法一般不能达到孔内,而孔内芯料的反应生成物及其他污染物会在后序工艺中会产生重复污染。无论是采用·溶剂或是清洗液清洗都容易引入新的污染源,然而利用超声波清洗技术却可以实现无重复污染,而且能深入MCP孔内的效果。
全自动真空干燥系统暨应对传统真空干燥缺陷的对策
由于超级电容MODULES在使用过程中经常出现温度升高、充电不足、高温连续使用时膨胀、爆裂的现象，美国MAXWELL确认与超级电容CELL的制造工艺和工艺设备有相关性，TIME一直在研究真空干燥的理由和方法，2006年美国MAXWELL找到了TIME，就开发全工序全自动的真空干燥系统达成协议。
全自动超级电容真空干燥系统系统在各单个制备工序以及在从一道工序转移到下一道工序的过程中完全实现高真空环境；有效排除超级电容内部水、气、杂质的影响；从而提高功率密度，降低内阻，改善高频特性；极大地提升了超级电容单体和模组的一致性及使用寿命等技术参数，同时生产效率数倍提高。
全自动超级电容真空干燥系统系统标准配置：
TE-ZGY全自动预热炉4台﹑TE-ZGL全自动真空干燥炉12台﹑
TE-ZGC半自动真空周转车2台、TE-ZGJ全自动真空手套界面箱1台。
在半导体湿式清洗制程中，晶圆 (湿式) 清洗制程主要是希望藉由化学药品与清洗设备，清除来自周遭环境所附着在晶圆表面的脏污，以达到半导体组件电气特性的要求与可靠度。过去 RCA 多槽湿式清洗一直是晶圆清洗的主要技术，不过随着近年来制程与清洗设备的演进，不但在清洗制程中不断产生新的技术，也随着半导体后段封装技术的演进，清洗设备也逐渐进入封装厂的生产线中。
清洗机的优点
超声波清洗机是利用超声波发生器产生的的超音频电信号,通过换能器的压电效应转换成同频率的机械振荡,并以超音频机械波的形式在清洗液中辐射.由于超音频机械波传播的正压区和负压区交替作用,产生无数超过1000个大气压的微小气泡并随时***,形成对清洗物表面的细微局部高压轰击,使物体表面及缝隙之中的污垢迅速剥落,这就是超声波清洗机所特有的“空化效应”.人们利用这一“空化效应”把超声波清洗机广泛的应用在:
航空、航天;2铁路;3汽车、摩托车制造业;4光学器件;5液晶(lcd)制造;6电子制计算机;7微电子;8电子电器元器件;9五金冲压件;10机械的零件;11家电产品;12电镀,真空镀;13钟表、眼镜、珠宝;14电机,微电机;15容器类;16***器具;17中药材有效成份萃取;18维修清洗--各种设备,设施,交通运输车辆工具,家用电器维修中的除油,除尘,除垢清洗;印刷行业的胶辊、丝印网清洗,打印机喷头清洗,cd/vcd/dvd光盘等领域生产加工过程中或终端的除油、除蜡、粉尘,松香等污染物的清洗。
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