南京硅片刻蚀机来电垂询「苏州晶淼半导体」

硅片清洗物理清洗 

　物理清洗有三种方法。①刷洗或擦洗:可除去颗粒污染和大多数粘在片子上的薄膜。②高压清洗：是用液体喷射片子表面，喷嘴的压力高达几百个大气压。高压清洗靠喷射作用，片子不易产生划痕和损伤。但高压喷射会产生静电作用，靠调节喷嘴到片子的距离、角度或加入防静电剂加以避免。③超声波清洗：超声波声能传入溶液,靠气蚀作用洗掉片子上的污染。但是,从有图形的片子上除去小于 1微米颗粒则比较困难。将频率提高到超高频频段，清洗效果更好。

超声波清洗机在各个行业的应用

光学、光电、光伏行业：

需要清洗的产品：光学玻璃及组件、光电玻璃及组件、光伏玻璃及组件等

污染源1：研磨粉、真漆、沥青、润滑油、抛光剂、石墨、微尘

污染源2：尘垢、盐、手垢

使用清洗剂1：有机性洗涤剂，醇类(·等)

使用清洗剂2：碱性洗涤剂,酸性洗涤剂,中性洗涤剂，纯水

清洗设备是指可用于替代人工来清洁工件表面油、蜡、尘、氧化层等污渍与污迹的机械设备。目前市面上所见到清洗设备为：超声波清洗、高压喷淋清洗、激光清洗、蒸汽清洗、干冰清洗及复合型清洗设备等；

飞机工业：

需要清洗的产品：发动机部件、各类附件、燃料油过滤机、燃料计量仪表、注入喷嘴、旋转翼、流量控制装置、机械控制装置用零件、轮毂、各类精密零部件等

污染源：氧化物、灰尘、机械运转时产生的碎屑、油类、润滑油、抛光粉、防腐剂、积碳

使用清洗剂：有机性洗涤剂；轻油(洗油等)；水基洗涤剂；纯水

超声波清洗机酿造/制药工业：

需要清洗的产品：瓶、盖子、标签去除装置、排气装置、处理器皿、处理用器具、充填装置管道等

污染源：残剩食物、指纹、灰尘、线头、淀粉、染料、蛋白印刷(烘烤前)油、润滑油、硅油

使用清洗剂：碱性洗涤剂、酸性洗涤剂、中性洗涤剂；有机洗涤剂；纯水

清清洗设备是指可用于替代人工来清洁工件表面油、蜡、尘、氧化层等污渍与污迹的机械设备。目前市面上所见到清洗设备为：超声波清洗、高压喷淋清洗、激光清洗、蒸汽清洗、干冰清洗及复合型清洗设备等；