半导体腐蚀台欢迎来电「苏州晶淼半导体」

清洗操作的注意事项：

     在清洗机内作业时，打开机器的通风设备，关闭外窗门，以防止气体扩散到清洗间，污染样品，损害操作人员健康； 保持清洗机内的清洁卫生，不摆放除超声设备、烧杯、花篮以外的其他设备。

苏州晶淼半导体设备有限公司的每台设备除标准化制作外，还可根据客户的工艺需求和工作环境的具体要求，对设备进行人性化、个性化设计，极大限度的将客户的想法转化为实际应用。能完全满足规模化生产和研发需求。 天道酬勤，商道酬信！精良的产品质量是我们的根本，超客户预期是我们的自我需求，真诚守信是我们的原则，我们的目标是提升中国湿制程设备制造水平和服务！

清洗安全操作规范：

(1)操作前，一定要检查工作台通风是否良好，如有异常，向上级汇报或向动力保障部门说明情况，请求调整；

(2)在通风橱里开启药品，并一定要戴上口罩、塑胶手套和防酸手套；

(3)试剂开启前,都必须将外面的塑料袋、橡皮筋取下并扔进垃圾桶；

(4)拧开药品盖后，取下瓶口的塑封膜并扔进垃圾桶，在倾倒药品时，一定要确定塑封膜是否在瓶上。

     硅材料表面的颗粒、有机物、金属、吸附分子、微粗糙度、自然氧化层等严重影响器件性能，清洗不佳引起的器件失效已超过集成电路制造中总损失的一半。因此，硅片清洗技术成为硅材料加工和半导体工艺研究的一大热点。

苏州晶淼半导体设备有限公司精良的产品质量是我们的根本，超客户预期是我们的自我需求，真诚守信是我们的原则，我们的目标是提升中国湿制程设备制造水平和服务！

清洗:

      从溶解的相似相溶规律出发,一般采用-乙醇清洗,或采用乙醇yi醚混液和异bing醇代替乙醇。采用乙醇-yi醚是因为这种混合液的挥发性强,采用异bing醇是因为异bing醇的脱脂能力强。为降低这些本身在MCP表面的残留,在每次使用后都要用超纯水进行漂洗。在不破坏MCP表面特征的情况下可结合搅拌、鼓泡、溢流、喷淋、超声、蒸汽脱脂等方法一起使用。