酸腐蚀清洗台来电洽谈「苏州晶淼半导体」

苏州晶淼半导体设备有限公司

是一家从事湿法制程设备研发、生产、销售、售后服务于一体的高新技术企业。历来秉承高起点、高目标、高要求、有品质的企业宗旨，致力于为半导体LED行业、光伏太阳能行业、LCD液晶行业以下行业提供蚀刻、清洗、显影、去膜、制绒、减薄等有品质设备，

清洗设备是指可用于替代人工来清洁工件表面油、蜡、尘、氧化层等污渍与污迹的机械设备。目前市面上所见到清洗设备为：超声波清洗、高压喷淋清洗、激光清洗、蒸汽清洗、干冰清洗及复合型清洗设备等；

残留的光刻胶、树脂、残留物和其他有机污染物暴露在等离子体中，清洗机 slc (100)可以在短时间内去除。等离子表面清洗和表面改性（等离子表面处理）利用等离子的特性对待处理固体原料的表面进行清洗、活化和激发，去除表面的微观结构、化学性质和能量。目的是改变。等离子体是一种高能、不稳定的状态。等离子体以各种方式用于利用这种高能量和不稳定性。

一种晶圆清洗机的防喷溅装置，该晶圆清洗机包含一晶圆承载装置及一围绕设置于该晶圆承载装置的周壁，该晶圆承载装置包括一承载吸盘，该防喷溅装置罩设于该晶圆承载装置外周围，该防喷溅装置包含一屏蔽单元及一驱动机构。屏蔽单元包括一顶端，屏蔽单元可相对于晶圆承载装置在一收合状态及一展开状态之间变换。在收合状态时，屏蔽单元的顶端与承载吸盘顶面相间隔一距离，在展开状态时，屏蔽单元的顶端与承载吸盘顶面相间隔一第二距离，第二距离大于距离。驱动机构与屏蔽单元相连接用以驱动屏蔽单元在收合状态及展开状态之间变换。借此，可将清洗液喷溅的范围限制在屏蔽单元内，以防止清洗液喷溅至其它物件。