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清洗机设备

平制造工程和制造工艺

      作为LCD制造工艺有代表性的清洗处理有以下几类：

      1）白玻璃基板清洗

      2）刻蚀处理后的清洗

      3）屏组装工程的清洗

            摩擦后清洗

            US气吹

            屏清洗装置

            清洗检测装置

      4）其他相关的附带清洗装置

            边框胶印刷用版的清洗

            夹具的清洗

            彩膜的清洗

            掩膜版的清洗

            取向膜剥离清洗

            卷扬干燥机

            IPA蒸气干燥机

            旋转

清洗设备是指可用于替代人工来清洁工件表面油、蜡、尘、氧化层等污渍与污迹的机械设备。目前市面上所见到清洗设备为：超声波清洗、高压喷淋清洗、激光清洗、蒸汽清洗、干冰清洗及复合型清洗设备等；

硅片清洗物理清洗 

　物理清洗有三种方法。①刷洗或擦洗:可除去颗粒污染和大多数粘在片子上的薄膜。②高压清洗：是用液体喷射片子表面，喷嘴的压力高达几百个大气压。高压清洗靠喷射作用，片子不易产生划痕和损伤。但高压喷射会产生静电作用，靠调节喷嘴到片子的距离、角度或加入防静电剂加以避免。③超声波清洗：超声波声能传入溶液,靠气蚀作用洗掉片子上的污染。但是,从有图形的片子上除去小于 1微米颗粒则比较困难。将频率提高到超高频频段，清洗效果更好。

清洗机机械/工具/量具/刃具工业：

需要清洗的产品：轴承、螺丝、喷嘴、齿轮、夹具、固定装置用附件、弹簧、钻研模具、床身、阀、游标卡尺、挫刀、各类量具、各类刃具、各类机械零件等

污染源1：磨料、切屑、防腐剂、切削油、冷却油、磨削砂轮孔的堵塞、助熔剂

污染源2：灰尘、氧化皮

使用清洗剂1：有机性洗涤剂；轻油(洗油等)

使用清洗剂2：碱性洗涤剂,酸性洗涤剂,中性洗涤剂；纯水

单晶圆清洗(SWC)系统，用于***的无损兆声清洗。可以适用于易受损的带图案或无图案的基片，包含带保护膜的掩模版。为了在确保不损伤基片的情况下达到*化的清洗效果，兆声能量的密度必须保持在稍稍低于样片上任意位置上的损伤阈值。NANO-MASTER的技术确保了声波能量均匀分布到整个基片表面，通过分布能量的zui大化支持的清洗，同时保证在样片的损伤阈值范围内。